“关于你刚才说的，我们其实已经有在重点关注这一块的问题了。”
“其实国家一直都很重视高新领域的技术发展，创新技术的突破，这些才是国家未来持续增长的动力，也是让我们跟其他发达国家缩小差距的地方。”
老总说，“所以我们才在去年公布了02专项和01专项。
国家会大力扶持芯片、半导体和电子器件的发展的。”
“感谢老总，感谢国家。”曹阳激动地说。
……
“其实，这一次不单单是考察，更重要的是跟你们这些年轻企业家沟通，”老总说，“你们才是祖国的未来，我们很需要像你这样优秀企业家，能为国家的芯片发展做出贡献。”老总说。
“所以……我们国家准备大力扶持芯片制造的话，”曹阳犹豫了一下，然后下定决心般提出了自己的意见，“那么能不能多帮帮中芯国际这种芯片生产商。
其实芯片这个东西，我们总结起来是设计上不难，起码博米现在也能设计出世界上一流的高端芯片，但是难在制作工艺和设备上面。
我们国家大陆地区现在在芯片制作上面，最优秀的是中芯国际，不过他们现在也因为设备爱问题进入了一个瓶颈，现在还能生产90纳米的芯片，可到了下一代，想要突破60纳米以下估计就很困难了。
我们也是没有办法才会把45纳米级的芯片代工交给台积电的。
而这中间，最最核心的就是光刻机。”
曹阳说到这里，眼神一阵失神。
想起来也真的很令人唏嘘，因为前世一直到2021年，我们国家因为华为制裁事件，整个芯片的短板被暴露出来，究其原因就是没有足够先进的光刻机。
这玩意儿，对于技术要求非常高。
EUV光刻机虽然精密复杂，但是它关键的核心技术却只有三个，分别是：光源、双工件台系统和光学镜头。
首先，在光源方面。
光刻机需要产生稳定的极紫外线，把光波长降低到121纳米至10纳米区间。
更短的光波，能够制造出来的芯片纳米级数就越小，芯片的性能就越高。
其次，在双工件台系统方面。
ASML公司在双工作台系统领域一直垄断，因为对机器的精密度和复杂性要求很高。
最后，在光学镜头方面。
镜头难到什么程度呢？
2002年，上海微
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